ਲੇਜ਼ਰ ਵੈਲਡਿੰਗ ਸਪੈਟਰ ਗਠਨ ਦੀ ਵਿਧੀ ਅਤੇ ਦਮਨ ਯੋਜਨਾ

ਸਪਲੈਸ਼ ਨੁਕਸ ਦੀ ਪਰਿਭਾਸ਼ਾ: ਵੈਲਡਿੰਗ ਵਿੱਚ ਸਪਲੈਸ਼ ਵੈਲਡਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਵਿੱਚੋਂ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਧਾਤ ਦੀਆਂ ਬੂੰਦਾਂ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਬੂੰਦਾਂ ਆਲੇ ਦੁਆਲੇ ਦੀ ਕੰਮ ਕਰਨ ਵਾਲੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਡਿੱਗ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਖੁਰਦਰਾਪਨ ਅਤੇ ਅਸਮਾਨਤਾ ਪੈਦਾ ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ ਦਾ ਨੁਕਸਾਨ ਵੀ ਹੋ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਵੇਲਡ ਸਤਹ 'ਤੇ ਡੈਂਟ, ਵਿਸਫੋਟ ਪੁਆਇੰਟ ਅਤੇ ਹੋਰ ਨੁਕਸ ਪੈ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜੋ ਵੇਲਡ ਦੀਆਂ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰਦੇ ਹਨ। .

ਵੈਲਡਿੰਗ ਵਿੱਚ ਸਪਲੈਸ਼ ਵੈਲਡਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਦੌਰਾਨ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਵਿੱਚੋਂ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਧਾਤ ਦੀਆਂ ਬੂੰਦਾਂ ਨੂੰ ਦਰਸਾਉਂਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਬੂੰਦਾਂ ਆਲੇ ਦੁਆਲੇ ਦੀ ਕੰਮ ਕਰਨ ਵਾਲੀ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਡਿੱਗ ਸਕਦੀਆਂ ਹਨ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਸਤ੍ਹਾ 'ਤੇ ਖੁਰਦਰਾਪਨ ਅਤੇ ਅਸਮਾਨਤਾ ਪੈਦਾ ਹੋ ਸਕਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੀ ਗੁਣਵੱਤਾ ਦਾ ਨੁਕਸਾਨ ਵੀ ਹੋ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਵੇਲਡ ਸਤਹ 'ਤੇ ਡੈਂਟ, ਵਿਸਫੋਟ ਪੁਆਇੰਟ ਅਤੇ ਹੋਰ ਨੁਕਸ ਪੈ ਸਕਦੇ ਹਨ ਜੋ ਵੇਲਡ ਦੀਆਂ ਮਕੈਨੀਕਲ ਵਿਸ਼ੇਸ਼ਤਾਵਾਂ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰਦੇ ਹਨ। .

ਸਪਲੈਸ਼ ਵਰਗੀਕਰਨ:

ਛੋਟੇ ਛਿੱਟੇ: ਵੇਲਡ ਸੀਮ ਦੇ ਕਿਨਾਰੇ ਅਤੇ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਮੌਜੂਦ ਠੋਸ ਬੂੰਦਾਂ, ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਦਿੱਖ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰਦੀਆਂ ਹਨ ਅਤੇ ਪ੍ਰਦਰਸ਼ਨ 'ਤੇ ਕੋਈ ਪ੍ਰਭਾਵ ਨਹੀਂ ਪਾਉਂਦੀਆਂ ਹਨ; ਆਮ ਤੌਰ 'ਤੇ, ਫਰਕ ਕਰਨ ਲਈ ਸੀਮਾ ਇਹ ਹੈ ਕਿ ਬੂੰਦ ਵੇਲਡ ਸੀਮ ਫਿਊਜ਼ਨ ਚੌੜਾਈ ਦੇ 20% ਤੋਂ ਘੱਟ ਹੈ;

ਵੱਡਾ ਸਪਲੈਟਰ: ਕੁਆਲਿਟੀ ਦਾ ਨੁਕਸਾਨ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਡੈਂਟਸ, ਵਿਸਫੋਟ ਪੁਆਇੰਟ, ਅੰਡਰਕੱਟ ਆਦਿ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਗਟ ਹੁੰਦਾ ਹੈਵੇਲਡ ਸੀਮ, ਜੋ ਅਸਮਾਨ ਤਣਾਅ ਅਤੇ ਤਣਾਅ ਦਾ ਕਾਰਨ ਬਣ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਵੇਲਡ ਸੀਮ ਦੀ ਕਾਰਗੁਜ਼ਾਰੀ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਮੁੱਖ ਫੋਕਸ ਇਸ ਕਿਸਮ ਦੇ ਨੁਕਸ 'ਤੇ ਹੈ.

ਸਪਲੈਸ਼ ਹੋਣ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ:

ਸਪਲੈਸ਼ ਉੱਚ ਪ੍ਰਵੇਗ ਦੇ ਕਾਰਨ ਵੈਲਡਿੰਗ ਤਰਲ ਸਤਹ ਦੇ ਮੋਟੇ ਤੌਰ 'ਤੇ ਲੰਬਕਾਰੀ ਦਿਸ਼ਾ ਵਿੱਚ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਵਿੱਚ ਪਿਘਲੀ ਹੋਈ ਧਾਤ ਦੇ ਟੀਕੇ ਦੇ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਪ੍ਰਗਟ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਹੇਠਾਂ ਦਿੱਤੇ ਚਿੱਤਰ ਵਿੱਚ ਸਪਸ਼ਟ ਤੌਰ 'ਤੇ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਜਿੱਥੇ ਤਰਲ ਕਾਲਮ ਵੈਲਡਿੰਗ ਪਿਘਲਣ ਤੋਂ ਉੱਠਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਬੂੰਦਾਂ ਵਿੱਚ ਸੜ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਸਪਲੈਸ਼ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ।

ਸਪਲੈਸ਼ ਹੋਣ ਦਾ ਦ੍ਰਿਸ਼

ਲੇਜ਼ਰ ਿਲਵਿੰਗਥਰਮਲ ਚਾਲਕਤਾ ਅਤੇ ਡੂੰਘੀ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਵੈਲਡਿੰਗ ਵਿੱਚ ਵੰਡਿਆ ਗਿਆ ਹੈ.

ਥਰਮਲ ਕੰਡਕਟੀਵਿਟੀ ਵੈਲਡਿੰਗ ਵਿੱਚ ਸਪੈਟਰ ਦੀ ਲਗਭਗ ਕੋਈ ਮੌਜੂਦਗੀ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦੀ ਹੈ: ਥਰਮਲ ਕੰਡਕਟੀਵਿਟੀ ਵੈਲਡਿੰਗ ਵਿੱਚ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਤੋਂ ਅੰਦਰੂਨੀ ਹਿੱਸੇ ਤੱਕ ਗਰਮੀ ਦਾ ਟ੍ਰਾਂਸਫਰ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੌਰਾਨ ਲਗਭਗ ਕੋਈ ਸਪਟਰ ਨਹੀਂ ਪੈਦਾ ਹੁੰਦਾ। ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਵਿੱਚ ਗੰਭੀਰ ਧਾਤੂ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਜਾਂ ਭੌਤਿਕ ਧਾਤੂ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆਵਾਂ ਸ਼ਾਮਲ ਨਹੀਂ ਹੁੰਦੀਆਂ ਹਨ।

ਡੂੰਘੀ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਵੈਲਡਿੰਗ ਇੱਕ ਮੁੱਖ ਦ੍ਰਿਸ਼ ਹੈ ਜਿੱਥੇ ਸਪਲੈਸ਼ਿੰਗ ਹੁੰਦੀ ਹੈ: ਡੂੰਘੀ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਵੈਲਡਿੰਗ ਵਿੱਚ ਲੇਜ਼ਰ ਨੂੰ ਸਮੱਗਰੀ ਵਿੱਚ ਸਿੱਧਾ ਪਹੁੰਚਣਾ, ਕੀਹੋਲ ਦੁਆਰਾ ਸਮੱਗਰੀ ਵਿੱਚ ਗਰਮੀ ਦਾ ਸੰਚਾਰ ਕਰਨਾ ਸ਼ਾਮਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਪ੍ਰਤੀਕ੍ਰਿਆ ਤੀਬਰ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਇਹ ਮੁੱਖ ਦ੍ਰਿਸ਼ ਹੁੰਦਾ ਹੈ ਜਿੱਥੇ ਛਿੜਕਾਅ ਹੁੰਦਾ ਹੈ।

ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਉਪਰੋਕਤ ਚਿੱਤਰ ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਕੁਝ ਵਿਦਵਾਨ ਲੇਜ਼ਰ ਵੈਲਡਿੰਗ ਦੌਰਾਨ ਕੀਹੋਲ ਦੀ ਗਤੀ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਦਾ ਨਿਰੀਖਣ ਕਰਨ ਲਈ ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਪਾਰਦਰਸ਼ੀ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੇ ਨਾਲ ਉੱਚ-ਸਪੀਡ ਫੋਟੋਗ੍ਰਾਫੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੇ ਹਨ। ਇਹ ਪਾਇਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ ਲੇਜ਼ਰ ਮੂਲ ਰੂਪ ਵਿੱਚ ਕੀਹੋਲ ਦੀ ਅਗਲੀ ਕੰਧ ਨੂੰ ਮਾਰਦਾ ਹੈ, ਤਰਲ ਨੂੰ ਹੇਠਾਂ ਵੱਲ ਵਹਿਣ ਲਈ ਧੱਕਦਾ ਹੈ, ਕੀਹੋਲ ਨੂੰ ਬਾਈਪਾਸ ਕਰਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੀ ਪੂਛ ਤੱਕ ਪਹੁੰਚਦਾ ਹੈ। ਉਹ ਸਥਿਤੀ ਜਿੱਥੇ ਕੀਹੋਲ ਦੇ ਅੰਦਰ ਲੇਜ਼ਰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਸਥਿਰ ਨਹੀਂ ਹੈ, ਅਤੇ ਲੇਜ਼ਰ ਕੀਹੋਲ ਦੇ ਅੰਦਰ ਫਰੈਸਨੇਲ ਸਮਾਈ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਹੈ। ਵਾਸਤਵ ਵਿੱਚ, ਇਹ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਤਰਲ ਦੀ ਹੋਂਦ ਨੂੰ ਕਾਇਮ ਰੱਖਦੇ ਹੋਏ, ਮਲਟੀਪਲ ਰਿਫ੍ਰੈਕਸ਼ਨ ਅਤੇ ਸਮਾਈ ਦੀ ਅਵਸਥਾ ਹੈ। ਹਰੇਕ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਦੌਰਾਨ ਲੇਜ਼ਰ ਰਿਫ੍ਰੈਕਸ਼ਨ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਕੀਹੋਲ ਦੀਵਾਰ ਦੇ ਕੋਣ ਨਾਲ ਬਦਲਦੀ ਹੈ, ਜਿਸ ਨਾਲ ਕੀਹੋਲ ਇੱਕ ਮੋੜਨ ਵਾਲੀ ਗਤੀ ਸਥਿਤੀ ਵਿੱਚ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਲੇਜ਼ਰ ਕਿਰਨ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਪਿਘਲਦੀ ਹੈ, ਭਾਫ਼ ਬਣ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਜ਼ੋਰ ਦੇ ਅਧੀਨ ਹੁੰਦੀ ਹੈ, ਅਤੇ ਵਿਗੜ ਜਾਂਦੀ ਹੈ, ਇਸਲਈ ਪੈਰੀਸਟਾਲਟਿਕ ਵਾਈਬ੍ਰੇਸ਼ਨ ਅੱਗੇ ਵਧਦੀ ਹੈ।

ਉੱਪਰ ਜ਼ਿਕਰ ਕੀਤੀ ਤੁਲਨਾ ਉੱਚ-ਤਾਪਮਾਨ ਪਾਰਦਰਸ਼ੀ ਸ਼ੀਸ਼ੇ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕਰਦੀ ਹੈ, ਜੋ ਅਸਲ ਵਿੱਚ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੇ ਇੱਕ ਕਰਾਸ-ਵਿਭਾਗੀ ਦ੍ਰਿਸ਼ ਦੇ ਬਰਾਬਰ ਹੈ। ਆਖ਼ਰਕਾਰ, ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੀ ਪ੍ਰਵਾਹ ਸਥਿਤੀ ਅਸਲ ਸਥਿਤੀ ਤੋਂ ਵੱਖਰੀ ਹੈ. ਇਸ ਲਈ, ਕੁਝ ਵਿਦਵਾਨਾਂ ਨੇ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਫ੍ਰੀਜ਼ਿੰਗ ਤਕਨਾਲੋਜੀ ਦੀ ਵਰਤੋਂ ਕੀਤੀ ਹੈ. ਵੈਲਡਿੰਗ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਦੌਰਾਨ, ਕੀਹੋਲ ਦੇ ਅੰਦਰ ਤਤਕਾਲ ਅਵਸਥਾ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਨ ਲਈ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਨੂੰ ਤੇਜ਼ੀ ਨਾਲ ਫ੍ਰੀਜ਼ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਇਹ ਸਪੱਸ਼ਟ ਤੌਰ 'ਤੇ ਦੇਖਿਆ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ ਕਿ ਲੇਜ਼ਰ ਕੀਹੋਲ ਦੀ ਮੂਹਰਲੀ ਕੰਧ ਨਾਲ ਟਕਰਾ ਰਿਹਾ ਹੈ, ਇੱਕ ਕਦਮ ਬਣ ਰਿਹਾ ਹੈ। ਲੇਜ਼ਰ ਇਸ ਸਟੈਪ ਗਰੋਵ 'ਤੇ ਕੰਮ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਨੂੰ ਹੇਠਾਂ ਵੱਲ ਵਹਿਣ ਲਈ ਧੱਕਦਾ ਹੈ, ਲੇਜ਼ਰ ਦੀ ਅੱਗੇ ਦੀ ਗਤੀ ਦੇ ਦੌਰਾਨ ਕੀਹੋਲ ਦੇ ਪਾੜੇ ਨੂੰ ਭਰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ ਅਸਲ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੇ ਕੀਹੋਲ ਦੇ ਅੰਦਰ ਵਹਾਅ ਦਾ ਅਨੁਮਾਨਿਤ ਪ੍ਰਵਾਹ ਦਿਸ਼ਾ ਚਿੱਤਰ ਪ੍ਰਾਪਤ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਜਿਵੇਂ ਕਿ ਸਹੀ ਚਿੱਤਰ ਵਿੱਚ ਦਿਖਾਇਆ ਗਿਆ ਹੈ, ਤਰਲ ਧਾਤ ਦੇ ਲੇਜ਼ਰ ਐਬਲੇਸ਼ਨ ਦੁਆਰਾ ਉਤਪੰਨ ਮੈਟਲ ਰੀਕੋਇਲ ਪ੍ਰੈਸ਼ਰ, ਤਰਲ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਨੂੰ ਅੱਗੇ ਦੀ ਕੰਧ ਨੂੰ ਬਾਈਪਾਸ ਕਰਨ ਲਈ ਚਲਾਉਂਦਾ ਹੈ। ਕੀਹੋਲ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੀ ਪੂਛ ਵੱਲ ਵਧਦਾ ਹੈ, ਪਿਛਲੇ ਪਾਸੇ ਤੋਂ ਝਰਨੇ ਵਾਂਗ ਉੱਪਰ ਵੱਲ ਵਧਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਪੂਛ ਦੇ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੀ ਸਤ੍ਹਾ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਇਸ ਦੇ ਨਾਲ ਹੀ, ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਤਣਾਅ ਦੇ ਕਾਰਨ (ਸਤਿਹ ਦੇ ਤਣਾਅ ਦਾ ਤਾਪਮਾਨ ਜਿੰਨਾ ਘੱਟ ਹੋਵੇਗਾ, ਜਿੰਨਾ ਜ਼ਿਆਦਾ ਪ੍ਰਭਾਵ ਹੋਵੇਗਾ), ਪੂਛ ਦੇ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਵਿੱਚ ਤਰਲ ਧਾਤ ਨੂੰ ਸਤ੍ਹਾ ਦੇ ਤਣਾਅ ਦੁਆਰਾ ਖਿੱਚਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ ਤਾਂ ਕਿ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੇ ਕਿਨਾਰੇ ਵੱਲ ਵਧਿਆ ਜਾ ਸਕੇ, ਲਗਾਤਾਰ ਠੋਸ ਹੁੰਦਾ ਜਾ ਰਿਹਾ ਹੈ। . ਤਰਲ ਧਾਤ ਜਿਸ ਨੂੰ ਭਵਿੱਖ ਵਿੱਚ ਠੋਸ ਕੀਤਾ ਜਾ ਸਕਦਾ ਹੈ, ਵਾਪਸ ਕੀਹੋਲ ਦੀ ਪੂਛ ਵੱਲ ਘੁੰਮਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਇਸ ਤਰ੍ਹਾਂ ਹੀ।

ਲੇਜ਼ਰ ਕੀਹੋਲ ਡੂੰਘੀ ਪ੍ਰਵੇਸ਼ ਵੈਲਡਿੰਗ ਦਾ ਯੋਜਨਾਬੱਧ ਚਿੱਤਰ: ਏ: ਵੈਲਡਿੰਗ ਦਿਸ਼ਾ; ਬੀ: ਲੇਜ਼ਰ ਬੀਮ; C: ਕੀਹੋਲ; ਡੀ: ਧਾਤੂ ਭਾਫ਼, ਪਲਾਜ਼ਮਾ; E: ਸੁਰੱਖਿਆ ਗੈਸ; F: ਕੀਹੋਲ ਸਾਹਮਣੇ ਕੰਧ (ਪਹਿਲ ਪਿਘਲਣ ਪੀਹ); G: ਕੀਹੋਲ ਮਾਰਗ ਰਾਹੀਂ ਪਿਘਲੀ ਹੋਈ ਸਮੱਗਰੀ ਦਾ ਹਰੀਜੱਟਲ ਪ੍ਰਵਾਹ; H: ਪਿਘਲ ਪੂਲ ਠੋਸ ਇੰਟਰਫੇਸ; I: ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦਾ ਹੇਠਾਂ ਵੱਲ ਵਹਾਅ ਦਾ ਮਾਰਗ।

ਸੰਖੇਪ:

ਲੇਜ਼ਰ ਅਤੇ ਸਮੱਗਰੀ ਵਿਚਕਾਰ ਪਰਸਪਰ ਪ੍ਰਭਾਵ ਦੀ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ: ਲੇਜ਼ਰ ਸਮੱਗਰੀ ਦੀ ਸਤਹ 'ਤੇ ਕੰਮ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਤੀਬਰ ਐਬਲੇਸ਼ਨ ਪੈਦਾ ਕਰਦਾ ਹੈ। ਸਮੱਗਰੀ ਨੂੰ ਪਹਿਲਾਂ ਗਰਮ ਕੀਤਾ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਪਿਘਲਿਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਭਾਫ਼ ਬਣਾਇਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਤੀਬਰ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆ ਦੇ ਦੌਰਾਨ, ਧਾਤ ਦੀ ਭਾਫ਼ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਨੂੰ ਹੇਠਾਂ ਵੱਲ ਮੁੜਨ ਦਾ ਦਬਾਅ ਦੇਣ ਲਈ ਉੱਪਰ ਵੱਲ ਵਧਦੀ ਹੈ, ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਇੱਕ ਕੀਹੋਲ ਬਣ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਲੇਜ਼ਰ ਕੀਹੋਲ ਵਿੱਚ ਦਾਖਲ ਹੁੰਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਕਈ ਨਿਕਾਸ ਅਤੇ ਸਮਾਈ ਪ੍ਰਕਿਰਿਆਵਾਂ ਵਿੱਚੋਂ ਗੁਜ਼ਰਦਾ ਹੈ, ਨਤੀਜੇ ਵਜੋਂ ਕੀਹੋਲ ਨੂੰ ਕਾਇਮ ਰੱਖਣ ਲਈ ਧਾਤ ਦੇ ਭਾਫ਼ ਦੀ ਨਿਰੰਤਰ ਸਪਲਾਈ ਹੁੰਦੀ ਹੈ; ਲੇਜ਼ਰ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕੀਹੋਲ ਦੀ ਅਗਲੀ ਕੰਧ 'ਤੇ ਕੰਮ ਕਰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਵਾਸ਼ਪੀਕਰਨ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕੀਹੋਲ ਦੀ ਅਗਲੀ ਕੰਧ 'ਤੇ ਹੁੰਦਾ ਹੈ। ਰੀਕੋਇਲ ਪ੍ਰੈਸ਼ਰ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੀ ਪੂਛ ਵੱਲ ਕੀਹੋਲ ਦੇ ਦੁਆਲੇ ਘੁੰਮਣ ਲਈ ਕੀਹੋਲ ਦੀ ਅਗਲੀ ਕੰਧ ਤੋਂ ਤਰਲ ਧਾਤ ਨੂੰ ਧੱਕਦਾ ਹੈ। ਕੀਹੋਲ ਦੇ ਦੁਆਲੇ ਤੇਜ਼ ਰਫ਼ਤਾਰ ਨਾਲ ਘੁੰਮਣ ਵਾਲਾ ਤਰਲ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਨੂੰ ਉੱਪਰ ਵੱਲ ਪ੍ਰਭਾਵਿਤ ਕਰੇਗਾ, ਉੱਚੀਆਂ ਤਰੰਗਾਂ ਬਣਾਉਂਦਾ ਹੈ। ਫਿਰ, ਸਤਹੀ ਤਣਾਅ ਦੁਆਰਾ ਚਲਾਇਆ ਜਾਂਦਾ ਹੈ, ਇਹ ਕਿਨਾਰੇ ਵੱਲ ਵਧਦਾ ਹੈ ਅਤੇ ਅਜਿਹੇ ਚੱਕਰ ਵਿੱਚ ਠੋਸ ਹੋ ਜਾਂਦਾ ਹੈ। ਸਪਲੈਸ਼ ਮੁੱਖ ਤੌਰ 'ਤੇ ਕੀਹੋਲ ਦੇ ਖੁੱਲਣ ਦੇ ਕਿਨਾਰੇ 'ਤੇ ਹੁੰਦਾ ਹੈ, ਅਤੇ ਸਾਹਮਣੇ ਦੀ ਕੰਧ 'ਤੇ ਤਰਲ ਧਾਤ ਕੀਹੋਲ ਨੂੰ ਤੇਜ਼ ਰਫਤਾਰ ਨਾਲ ਬਾਈਪਾਸ ਕਰੇਗੀ ਅਤੇ ਪਿਛਲੀ ਕੰਧ ਦੇ ਪਿਘਲੇ ਹੋਏ ਪੂਲ ਦੀ ਸਥਿਤੀ ਨੂੰ ਪ੍ਰਭਾਵਤ ਕਰੇਗੀ।